डच सेमीकंडक्टर उपकरण निर्माता एएसएमएल ने मंगलवार को कहा कि इंटेल ने कुछ प्रमुख पैंथर लेक नोटबुक चिप्स के निर्माण के लिए अपने उच्च-स्तरीय लिथोग्राफी उपकरण का उपयोग करने का निर्णय लिया है। इस कदम का उद्देश्य चिप दिग्गज को व्यवहार में इस उन्नत उपकरण के उपयोग को अधिक कुशलता से करने में मदद करना है।
एएसएमएल ने कहा कि 2024 में प्रासंगिक प्रयोगों के लॉन्च के बाद, इंटेल ने अब अपनी नई पीढ़ी की उच्च संख्यात्मक एपर्चर (उच्च एनए) चरम पराबैंगनी (ईयूवी) लिथोग्राफी मशीनों को उपयोग में लाना शुरू कर दिया है। उपकरण का उपयोग मुख्य रूप से कुछ पैंथर लेक प्रोसेसर के उत्पादन में सहायता के लिए माइक्रोचिप्स पर माइक्रोसर्किट पैटर्न मुद्रित करने के लिए किया जाता है।
सेमीकंडक्टर उद्योग के भीतर इस बात पर बहस चल रही है कि उच्च एनए उपकरण तैनात करना कब व्यावसायिक रूप से उचित होगा। हालाँकि, चूंकि चिप निर्माता चिप के अंदर परमाणु-स्तर के माइक्रोस्ट्रक्चर के आकार को कम करना जारी रखते हैं, ऐसे उपकरण भविष्य में उद्योग में एक तत्काल आवश्यकता बन जाएंगे। यह बताया गया है कि एक एकल उच्च एनए लिथोग्राफी मशीन की लागत लगभग 400 मिलियन अमेरिकी डॉलर है, जो मानक ईयूवी उपकरण की कीमत से दोगुनी है, और इसे वास्तविक उत्पादन प्रक्रिया में पेश करने में भी बड़ी तकनीकी चुनौतियों का सामना करना पड़ता है।
वर्तमान में, इंटेल मुख्य रूप से चिप की विशिष्ट परतों पर उच्च NA उपकरण का उपयोग करता है। यह कदम इंटेल और एएसएमएल को परीक्षण डेटा एकत्र करने और उपकरणों को लगातार अनुकूलित करने में मदद करेगा। इंटेल ने इस खबर पर टिप्पणी करने से इनकार कर दिया।
यह समझा जाता है कि इंटेल पैंथर लेक चिप्स का उत्पादन करने के लिए अपनी 18ए विनिर्माण प्रक्रिया का उपयोग कर रहा है, और पहले उत्पादन में एएसएमएल की मानक ईयूवी लिथोग्राफी मशीन का उपयोग कर चुका है (लिथोग्राफी प्रक्रिया मुख्य रूप से जटिल पैटर्न बनाने के लिए प्रकाश का उपयोग करती है जो चिप सर्किट बनाती है)। 2024 की शुरुआत में, इंटेल को हिल्सबोरो, ओरेगॉन में अपने अनुसंधान एवं विकास केंद्र में पहला उच्च एनए उपकरण प्राप्त हुआ है। यह केंद्र इंटेल के लिए नई विनिर्माण प्रक्रियाओं और प्रौद्योगिकियों को विकसित करने का मुख्य आधार भी है।